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专为客户供应优质PVD真空镀膜机的生产厂家
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走进振华
一家专门为客户提供优质真空镀膜解决方案的企业
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广东振华科技股份有限公司始创于1992年,是一家专门为客户提供优质真空镀膜解决方案的企业,公司独立研发、生产、销售真空镀膜设备,提供镀膜工艺及技术支持。公司总部设立在广东省肇庆市,在肇庆市设立了三个生产基地,分别为云桂振华工业园、北岭生产基地以及蓝塘生产基地;同时设有广东振华科技股份有限公司广东广州分公司、湖北办事处等多个销售服务点。

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新闻资讯
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NEWS
01.31
基片与薄膜的选择原则
01.31
基片的表面形貌、热膨胀系数对薄膜的影响
基片表面形稅对游膜的生长有着非常重要的彩响。若基片的表面相糙度超来超大,绪合面缺陷也会越来越多,会影响薄膜的附着和生长速率。因此,在真空镂膜开始前,会对基片进行预处理,起到在清洗基片的同时,增大基片表面粗糖度的作用。
01.24
几种常用靶材的制备
①铬靶 铬作为溅射膜材不但易与基材结合有很高的附着力,而且铬与氧化物生成CrO3。膜时,其机械性能、耐酸性能、热稳定性能都较好。此外,铬在不完全氧化状态下还可生成弱吸收膜。将纯度98%以上的铬制成矩形靶材或圆筒形铬靶材已有报道。此外,采用烧结法制成铬矩形靶的技术也已成熟。 ② ITO靶 制备 ITO膜所用的靶材,过去通常采用 In-Sn 合金材料来制靶,然后在镀膜过程中通氧,而后生成ITO膜。这种方法由于反应气体控制较难,制重复性较差。因而,近几年已经被ITO烧结靶所取代。ITO靶材典型的工艺过程是按质量配比,通过球磨法将其充分混合后,再加入专用有机粉合剂将其混合成所要求的形状,并通过加压压实后,再将板块在空气中以 100℃/h的升温速度升温到1600℃后保温1h,再以冷却速度为100℃/h降到常温而制成。制靶时靶平面要求磨光,以免在溅射过程中出现热点。
01.24
离子束辅助沉积技术的特点
①离子束辅助沉积技术的最大特点是膜与基体间的附着力强,膜层十分牢固。实验表明:离子束辅助沉积的附着力比热蒸镀的附着力提高了几倍到几百倍,其原因主要是由于离子轰击对表面所产生的清洗作用,使膜基界面上形成梯度界面结构或称混合过渡层,以及减少膜的应力所致。 ②离子束辅助沉积可改善膜的机械性能、延长疲劳寿命,非常适合制备氧化物、碳化物、立方BN、TiB2,以及类金刚石涂层等。例如在1Cr18Ni9Ti耐热钢上采用离子束辅助沉积技术生长 200nm的Si3N4薄膜时,不仅可以抑制材料表面疲劳裂纹的萌生,而且可以明显地降低疲劳裂纹的扩散速率,对延长其寿命有着良好的作用。