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磁控溅射镀膜工艺常见故障问题及解决办法-广东振华真空镀膜设备

磁控溅射镀膜工艺是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)诸多技术中的一种,磁控溅射镀膜是通过在靶阴极表面磁场将引入,利用磁场约束带电粒子,使等离子体密度提高以增加溅射率。

磁控溅射镀膜

磁控溅射镀膜工艺在日常操作过程中有哪些常见的故障呢?

1.无法起辉

(1)直流电源故障,检查直流电源;

(2)氩气进气量小,检查氩气流量计或加大氩气进气量;

(3)真空室清洁度不够,清洁真空室;

(4)靶材绝缘度不够,检查靶是否与地短路,在通水的情况下,对地电阻应该在50kΩ以上;

(5)磁场强度不够,检查永磁体是否消磁;

(6)真空度太差,检查真空系统。

2.辉光不稳

(1)电压电流不稳,检查电源;

(2)真空室压力不稳,检查氩气进气量及真空系统;

(3)电缆故障,检查电缆是否连接良好。

3.成膜质量差

(1)基片表面清洁度差,清洁基片表面;

(2)真空室清洁度差,清洁真空室;

(3)基片温度过大或过小,检查温控系统,校准热电偶;

(4)真空室压力过大,检查真空系统;

(5)溅射功率设置不当,检查直流电源,设置何事的设定功率。

4.溅射速率低

(1)氩气进气量过大或过小,观察辉光颜色可以判定氩气是过大还是过小,据此调整氩气进气量;检修流量计;

(2)靶材过热,检查冷却水流量;

(3)检查永磁体是否消磁。