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圆形平面磁控溅射镀膜设备有哪些特点-广东振华真空镀膜设备

磁控溅射由于靶材形状和结构的不同,可分为平面圆形、平面矩形、锥形、凹板、圆柱等多种类型。圆形平面磁控溅射镀膜设备在阴极溅射靶添加圆形平面的磁极,以形成电场和磁场与靶面正交的封闭的路径。正交电磁场跑道约束电子运动。在正交电磁场的作用下,磁场中的电子围绕磁力线移动,从而增加了电子参与原子碰撞和电离过程的可能性。

圆形平面磁控溅射镀膜设备

1、靶构造特点

圆形平面磁控溅射靶由冷却水管、靶、屏蔽罩、环形磁铁、轭铁、真空壁、绝缘套、压环、螺钉、密封圈、导水管等部件组成。圆形平面磁控溅射靶采用钎焊焊或螺钉的固定方式紧紧连接于阴极体上,该阴极体由永磁体、中心磁柱、环形磁铁、靶外壳和对应水冷设施等零件组成。一般都是接负电位为500V~600V间的溅射靶,真空室采取接地连接的方式,在溅射靶的对面放置基材。

2、溅射磁场特点

圆形平面磁控溅射的磁场是由电磁线圈安匝数、永久磁体剩磁、磁路的结构等因素所决定的。体现在溅射靶的表面磁感应的分布的及强度的大小。该类靶表面的磁感应强度一般为0.02T-0.05T的平行分量,为0.03T左右的值较为合适。因此,不管如何布置磁路,选择哪种磁体材料,都必须保证满足磁感应强度的要求,可以通过磁场的计算或测试来掌握溅射磁场的分布规律及其大小。

3、屏蔽罩

圆形平面溅镀设备中设置的屏蔽罩,有着防止溅射非靶材的零件的作用,提高薄膜纯度,并且该屏蔽罩接地,还能起辅助阳极的作用,吸收低能电子。可通过阴极体与屏蔽罩之间的间隙,来确定屏蔽罩安装位置。

4、冷却水套

圆形平面溅镀中溅射靶的水套有着控制靶温的作用,使溅射靶处于适宜温度的状态得到保证。因为如若温度过高可能会出现靶材熔化的问题,温度过低则将致使溅射镀膜整体速率降低。

磁控溅射是目前应用最广泛的一种溅射镀膜方法,圆形平面磁控溅射镀膜设备具有设备简单、操作简易、成膜质量优良、沉积速率高、可连续生产、对基材的辐射损伤较小的优点,并且有效降低了电子轰击对膜层的破坏,可实现低压(0.1Pa)溅射镀膜。