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陶瓷溅射金属化镀膜有哪些优点-广东振华真空镀膜设备

陶瓷溅射金属化镀膜的步骤是,在镀膜设备真空室里面充入一定压强的Ar(氩气),施加直流电压于电极之间,此时,会有辉光放电现象的形成,通过气气体放电的正离子对靶面进行不断地轰击,使镀膜靶材溅射到衬底材料(陶瓷或其他材料)上,形成金属化薄膜,从而实现陶瓷的金属化镀膜效果。

真空镀膜厂

溅射镀膜是一种物理气相沉积工艺,用于在基材上镀制极薄的功能、装饰等涂层。该过程始于溅射阴极的通电,由溅射阴极产生等离子体,从而使靶材从表面发生溅射,让靶材溅射出来的等离子体粘结到阴极上,并通过磁控工艺,确保了膜层的稳定和均匀性。这在分子水平上,镀膜靶材通过动能传递导向基材,高能量的等离子体撞击/轰击基材,并黏附到基材表面,形成了原子级的结合,非常牢固。

溅射镀膜工艺的好处是可以产生稳定的等离子体,从而提供更均匀的沉积薄膜。溅射镀膜通常用于以下镀膜应用于太阳能板、建筑玻璃、微电子学、航空航天、平板显示器、汽车等领域。

与蒸发金属化工艺相比,溅射金属化镀膜能在较低的温度下沉积熔点较高的金属薄膜,且可以用于制作厚度均匀的、大面积的、与基底结合牢固的金属薄膜。溅射镀膜工艺还具有能沉积合金及氧化物等薄膜等优点,此外,这种镀膜工艺还能获得“原子清洁”的金属表面,这对于真空技术来说,无疑是一种项非常有优势的技术。