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什么是反应溅射镀膜?-广东振华真空镀膜设备

如果在产生溅射材料的同时还通入反应气体,那么就是反应溅射。反应溅射镀膜有两种形式:

反应溅射镀膜

一是采用化合物的镀膜靶材,在溅射时由于离子轰击的作用使靶材化合物分解,例过在使用单纯的氩气作为溅射气体后,刚产生的膜的化学配比将会失真,为了弥补了解组分的损失,可在氩气中添加一定数量的反应气体来生成化合物,从而保证膜层成分的不变。

二是采用纯金属、合金或混合物来作镀膜靶材,在由惰性气体和反应气体组成的混合溅射气氛中,通过溅射及化学反应得到化合物的膜。

这两种形式的主要区别在于沉积速率和反应气体气压不同。可以用于反应溅射的反应气体有:空气、氧气或水蒸气(生成氧化膜),氮气或NH3,(生成氮化膜),氧气加氮气(生成氧氮化膜)、H2S(生成硫化膜),As(生成砷化膜)等,其中有些气体在使用中一定要注意安全问题。

目前柱状磁控溅射靶的直径已可达2.5米,平面磁控溅射靶的长度已达到6.5m。高功率大面积磁控溅射靶的出现为大批量工业生产中的应用开辟了广阔的道路。